（台北1日综合电）台湾“台积电”爆出2纳米国家级核心晶片技术外流，检调查出，台积电离职工程师陈力铭转投至东京威力科创公司服务后，为了改善2纳米制程蚀刻机台表现等原因，涉找上现职台积电工程师吴秉骏及戈一平以笔记型电脑远端登入台积电系统，陈再持手机翻拍“Security B或C”等级机密资料，高检署上周依违反国安法起诉3人，周一移由智慧财产及商业法院审理，合议庭庭讯约4个多小时后裁定3嫌羁押禁见3个月。
本案是由高检署智财分署主任检察官郑鑫宏、检察官刘怡君、朱立豪、黄正雄，指挥调查局新竹巿调查站、资安工作站及北机站共同侦破；今移审后，法院办理电脑分案，负责审理此案的合议庭为庭长张铭晃担任审判长、法官冯浩庭为陪席法官、法官彭凯璐为受命法官。
检调查出，东京威力是台积电其他制程蚀刻机供应商，为了切入2纳米制程，因此以测试方式寻求蚀刻机站点供应资格，未料2024年底最终测试没过关而“掉单”。
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